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生物實驗無塵室日常管理辦法

   潔淨實驗無塵室主要是通過人為的手段,應用潔淨技術實現控製室內空氣中塵埃、含菌濃度、溫濕度與壓力、以達到所要求的潔淨度、溫濕度和氣流速度等環境參數。產品的質量是一個企業的生命線,在許多企業尤其是電子企業和生物醫藥企業中,影響產品質量的一個重要因素就是無塵室的潔淨度。合欢视频app下载官方安卓手机版分享如何做好無塵室的管理工作保證無塵室的潔淨度?

一、進入無塵室須知

1.進入無塵室前,必須知會管理人,並通過基本訓練。

2.進入無塵室嚴禁吸煙,吃(飲)食,外來雜物(如報章,雜誌,鉛筆...等)不可攜入,並嚴禁嘻鬧奔跑及團聚談天。

3.進入無塵室前,需在規定之處所脫鞋,將鞋置於鞋櫃內,外衣置於衣櫃內,私人物品置於私人櫃內,櫃內不可放置食物。

4.進入無塵室須先在更衣室,將口罩,無塵帽,無塵衣以及鞋套按規定依程序穿戴整齊,再經空氣洗塵室洗塵,並踩踏除塵地毯(洗塵室地板上)方得進入。

5.戴口罩時,應將口罩戴在鼻子之上,以將口鼻孔蓋住為原則,以免呼吸時汙染芯片。

6.穿著無塵衣,無塵帽前應先整理服裝以及頭發,以免著上無塵衣後,不得整理又感不適。

7.整肅儀容後,先戴無塵帽,無塵帽的穿戴原則係:

(1)頭發必須完全覆蓋在帽內,不得外露。

(2)無塵帽之下擺要平散於兩肩之上,穿上工作衣後,方不致下擺脫出,裸露肩頸部。

8.無塵帽戴妥後,再著無塵衣,無塵衣應尺吋合宜,才不致有褲管或衣袖太短而裸露皮膚之虞,穿衣時應注意帽之下擺應保平整之狀態,無塵衣不可反穿。

9.穿著無塵衣後,才著鞋套,拉上鞋套並將鞋套整平,確實蓋在褲管之上。

10.戴手套時應避免以光手碰觸手套之手掌及指尖處(防止鈉離子汙染),戴上手套後,應將手套之手腕置於衣袖內,以隔絕汙染源。

11.無塵衣著妥後,經洗塵,並踩踏除塵毯,方得進入無塵室。

12.不論進入或離開無塵室,須按規定在更衣室脫無塵衣,不可在其它區域為之,尤不可在無塵室內邊走邊脫。

13.無塵衣,鞋套等,應定期清洗,有破損,脫線時,應即換新。

14.脫下無塵衣時,其順序與穿著時相反。

15.脫下之無塵衣應吊好,並放於更衣室內上層櫃子中;鞋套應放置於吊好的無塵衣下方。

16.更衣室內小櫃中,除了放置無塵衣等規定物品外,不得放置其它物品。

17.除規定紙張及物品外,其它物品一概不得攜入無塵室。

18.無塵衣等不得攜出無塵室,用畢放置於規定處所。

19.口罩與手套可視狀況自行保管或重複使用。

20.任何東西進入無塵室,必須用灑精擦拭幹淨。

21.任何設備的進入,請知會管理人,在無塵室外擦拭幹淨,方可進入。

22.未通過考核之儀器,禁止使用,若遇緊急情況,得依緊急處理步驟作適當處理,例如關閉水、電、氣體等開關。

23.無塵室內不可動火,以免發生意外。

二、無塵室操作須知

1.處理芯片時,必須戴上無纖維手套,使用清洗過的幹淨鑷子挾持芯片,請勿以手指或其它任何東西接觸芯片,遭碰觸汙染過的芯片須經清洗,方得繼續使用:

(1)任何一支鑷子前端(即挾持芯片端)如被碰觸過,或是鑷子掉落地上,必須拿去清洗請勿用紙巾或布擦拭髒鑷子。

(2)芯片清洗後進行下一程序前,若被手指碰觸過,必須重新清洗。

(3)把芯片放置於石英舟上,準備進爐管時,若發現所用鑷子有汙損現象或芯片上有顯眼由鑷子所引起的汙染,必須將芯片重新清洗,並立即更換幹淨的鑷子使用。

2.芯片必須放置盒中,蓋起來存放於規定位置,盡可能不讓它暴露。

3.避免在芯片上談話,以防止唾液濺於芯片上,在芯片進擴散爐前,請特別注意,防止上述動作產生,若芯片上沾有纖維屑時,用氮氣槍噴之。

4.從鐵弗龍(Teflon)晶舟,石英舟(Quartz Boat)等載具(Carrier)上,取出芯片時,必須垂直向上挾起,避免刮傷芯片,顯微鏡鏡頭確已離芯片,方可從吸座上移走芯片。

5.芯片上,若已長上氧化層,在送黃光室前切勿用鑽石刀在芯片上刻記。

6.操作時,不論是否戴上手套,手絕不能放進清洗水槽。

7.使用化學站或烤箱處理芯片時,務必將芯片置放於鐵弗龍晶舟內,不可使用塑料盒。

8.擺置芯片於石英舟時,若芯片掉落地上或手中則必須重新清洗芯片,然後再進氧化爐。

9.請勿觸摸芯片盒內部,如被碰觸或有碎芯片汙染,必須重作清洗。

10. 手套,廢紙及其它雜碎東西,請勿留置於操作台,手套若燒焦、磨破或纖維質變多必須換新。

11.非經指示,絕不可開啟不熟悉的儀器及各種開關閥控製鈕或把手。

12.奇怪的味道或反應異常的溶液,顏色,聲響等請即通知相關人員。

13.儀器因操作錯誤而有任何損壞時,務必立刻告知負責人員或老師。

14.芯片盒進出無塵室須保持幹淨,並以保鮮膜封裝,違者不得進入。

15.無塵室內一律使用原子筆及無塵筆記本做記錄,一般紙張與鉛筆不得攜入。

三、黃光區操作須知

1.濕度及溫度會影響對準工作,在黃光區應注意溫度及濕度,並應減少對準機附近的人,以減少濕、溫度的變化。

2.上妥光阻尚未曝光完成之芯片,不得攜出黃光區以免感光。

3.己上妥光阻,而在等待對準曝光之芯片,應放置於不透明之藍黑色晶盒之內, 盒蓋必須蓋妥。

4.光罩使用時應持取邊緣,不得觸及光罩麵,任何狀況之下,光罩鉻膜不得與他物接觸,以防刮傷,光罩之落塵可以氮氣槍吹之。

5.曝光時,應避免用眼睛直視曝光機汞燈。

四、鑷子使用須知

1.進入實驗室後,應先戴上手套後,再取鑷子,以免沾汙。

2.唯有使用幹淨的鑷子,才可持取芯片,鑷子一旦掉在地上或被手觸碰,或因其它原因而遭汙染,必須拿去清洗,方可再使用。

3.鑷子使用後,應放於各站規定處,不可任意放置,如有特殊製程用鑷子,使用後應自行保管,不可和實驗室內各站之鑷子混合使用。

4.持鑷子應采"握筆式"姿勢挾取芯片。

5.挾取芯片時,順序應由後向前挾取,放回芯片時,則由前向後放回,以免刮傷芯片表麵。

6.挾取芯片時,"短邊" (鋸狀頭)置於芯片正麵,"長邊" (平頭)置於芯片背麵,挾芯片空白部分,不可傷及芯片。

7.嚴禁將鑷子接觸酸槽或D.I Water水槽中。

8.鑷子僅可做為挾取芯片用,不準做其它用途。

五、化學藥品使用須知

1.化學藥品的進出須登記,並知會管理人,並附上物質安全資料表(MSDS)於實驗室門口。

2.使用化學藥品前,請詳讀物質安全資料表(MSDS),並告知管理人。

3.換酸前必先穿著防酸塑料裙,戴上防酸長袖手套,頭戴護鏡,腳著塑料防酸鞋,始可進行換酸工作。

4.不得任意打開酸瓶的蓋子,使用後立即鎖緊蓋子。

5.稀釋酸液時,千萬記得加酸於水,絕不可加水於酸。

6.勿嚐任何化學藥品或以嗅覺來確定容器內之藥品。

7.不明容器內為何種藥品時,切勿搖動或倒置該容器。

8.所有化學藥品之作業均須在通風良好或排氣之處為之。

9.操作各項酸液時須詳讀各操作規範。

10.酸類可與堿類共同存於有抽風設備的儲櫃,但絕不可與有機溶劑存放在一起。

11.廢酸請放入廢酸桶,不可任意傾倒,更不可與有機溶液混合。

12.廢棄有機溶液置放入有機廢液桶內,不可任意傾倒或倒入廢酸桶內。

13.勿任意更換容器內溶液。

14.欲自行攜入之溶液請事先告知經許可後方可攜入,如果欲自行攜入之溶液具有危險性時,必須經評估後方可攜入,並請於容器上清楚標明容器內容物及保存期限。

15.廢液處理:廢液分酸、堿、氫氟酸、有機、等,分開處理並登記,回收桶標示清楚,廢液桶內含氫氟酸等酸堿,不可用手觸碰。

16.漏水或漏酸處理:漏水或漏酸時,為確保安全,不可用手觸碰,先將電源總開關與相關閥門關閉,再以無塵布或酸堿吸附器處理之,並報備管理人。

六、化學工作站操作

1.操作時須依規定,戴上橡皮手套及口罩。

2.不可將塑料盒放入酸槽或清洗槽中。

3.添加任何溶液前,務必事先確認容器內溶劑方可添加。

4.在化學工作站工作時應養成良好工作姿勢,上身應避免前傾至化學槽及清洗槽之上方,一方麵可防止危險發生,另一方麵亦減少汙染機會。

5.化學站不操作時,有蓋者應隨時將蓋蓋妥,清洗水槽之水開關關上。

6.化學藥品濺到衣服、皮膚、臉部、眼睛時,應即用水衝洗濺傷部位15分鍾以上,且必須皮膚顏色恢複正常為止,並立刻安排急救處理。

7.化學品外泄時應迅速反應,並做適當處理,若有需要撤離時應依指示撤離。

8.各化學工作站上使用之橡皮手套,避免觸碰各機台及工作台,及其它器具等物,一般操作請戴無塵手套。


七、RCA Method

1.DI Water                   5min

2.H2SO4:H2O2=3:1             煮10~20min 75~85℃,去金屬、有機、油

3.DI Water                   5min

4.HF:H2O                     10~30sec,去自然氧化層(Native Oxide)

5.DI Water                   5min

6.NH4OH:H2O2;H2O=1:1:5       煮10~20min 75~85℃,去金屬有機

7.DI Water                   5min

8.HCl:H2O2:H2O=1:1:6         煮10~20min  75~85 ℃  去離子

9.DI Water                   5min

10.Spin Dry

八、清洗注意事項

1.有水則先倒水﹐H2O2後倒﹐數字比為體積比。

2.有機與酸堿不可混合﹐操作平台也務必分開使用。

3.酸堿溶液等冷卻後倒入回收槽﹐並以DI Water衝玻璃杯5 min。

4.酸堿空瓶以水清洗後﹐並依塑料瓶﹐玻璃瓶分開置於室外回收筒。

5.氫氟酸會腐蝕骨頭﹐若碰到立即用葡萄酸鈣加水塗抹,再用清水衝洗幹淨,並就醫。碰到其它酸堿則立即以DI Water大量衝洗。

6.清洗後之Wafer盡量放在DI Water中避免汙染。

7.簡易清洗步驟為1-2-9-10;清洗SiO2步驟為1-2-10;清洗Al以HCl:H2O=1:1。

8.去除正光阻步驟為1-2-10,或浸入ACE中以超音波振蕩。

9.每個玻璃杯或槽都有特定要裝的溶液﹐蝕刻、清洗、電鍍、有機絕不能混合。

10.廢液回收分酸、堿、氫氟酸、電鍍、有機五種,分開回收並記錄,傾倒前先檢查廢棄物兼容性表,確定無誤再傾倒。

    保持無塵室的清潔是非常重要的。室外大氣中的塵埃,借通風換氣過程會進入實驗室,實驗內含塵量過高,空氣不淨,不但影響檢測結果,而且還會造成其他問題出現。遵守生物實驗無塵室日常管理辦法並不是杜絕此類問題不會發生,而是減少無塵室的汙染。


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